株式会社エキップは真空技術に加え光学・計測・分析関連の研究サポートを行います。

製品一覧

通電/輻射加熱ホルダー

基板裏面からの輻射加熱と、サンプルへの直接通電加熱が可能です。

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輻射加熱ホルダー

基板裏面からの輻射加熱が可能です。

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SiCヒーター/各種蒸着装置用ホルダー

酸素雰囲気などの反応性薄膜蒸着に使用可能です。

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サンプルバンク付ブロックヒーター式加熱ホルダー

サンプルバンクと基板加熱機構が一体となった、ブロックヒーターを使用したサンプル加熱機構です。

超高真空などの、極限状態での実験効率の改善と簡単なサンプル処理を行うことが可能です。
加熱方式は通電方式、輻射方式、電子衝撃式などが選択可能です。

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3段サンプルバンク

超高真空対応の3段サンプルバンクです。
保持方式、サンプルプレート形状、保持数など、目的に合わせた仕様検討が可能です。

　　　　　

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その他

輻射式・通電式・電子衝撃式・ランプ加熱式など様々な加熱方式やLN2/LHe冷却及び冷却加熱・角度分析機能といった分析向けから、微小電流測定を兼ね備えた交換式サンプルホルダー、蒸着装置用基板加熱ホルダーなどご提供可能です。
詳しくは弊社までご連絡ください。

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